Om de oppervlakteglans van hardwarebevestigingsmiddelen te verbeteren, wordt in veel gevallen meestal oppervlaktebehandeling - galvaniseren van nikkel gebruikt. Tijdens dit proces komen er koperionen vrij, een van de meest voorkomende onzuiverheden bij helder vernikkelen. Als de plateeroplossing verontreinigd is met Cu2+, zal de helderheid van de geplateerde delen in het gebied met lage stroomdichtheid slecht zijn. Overmatig Cu2+ zal ook de broosheid van de coating en een slechte hechting veroorzaken.
Dus hoe verwijder je onzuiverheden uit de plateeroplossing van hardwarebevestigingsmiddelen? China Standard Parts Network vat het als volgt samen:
Elektrolysemethode: een methode waarbij gebruik wordt gemaakt van een lage stroomdichtheid om Cu{{0}} in de galvaniseringsoplossing op de kathodeplaat af te zetten. Er worden drie soorten kathodeplaten gebruikt voor de verwerking: golfplaten, zaagtandplaten en vlakke platen. Wanneer een bepaalde stroom wordt toegepast op de golfplaat voor elektrolyse, is het Jκ-bereik op de kathodeplaat groter, met een grotere Jκ bij de piek en een kleinere Jκ bij het dal, zodat Cu2+ en andere metaalverontreinigingen kunnen ontstaan. tegelijkertijd worden afgezet om het doel van het verwijderen van meerdere onzuiverheden te bereiken. De zigzagkathodeplaat wordt beïnvloed door het *-effect. Ni2+ en Cu2+ worden tijdens het elektrolyseproces tegelijkertijd afgezet, wat resulteert in een groter verlies aan nikkelzout in de galvaniseringsoplossing. Met behulp van een platte kathode kunnen verschillende Jκ worden gebruikt om het doel van het selectief verwijderen van metaalverontreinigingen te bereiken. Uit ervaring blijkt dat wanneer Jκ 0,5 A/dm2 is, het gunstig is dat Cu2+ neerslaat aan de kathode.
Ongeacht welk type kathode wordt gebruikt voor elektrolysebehandeling, er moet aandacht worden besteed aan verschillende zaken: Tijdens langdurige elektrolysebehandeling moet de elektrolytische plaat regelmatig worden gereinigd om te voorkomen dat de losse coating op de elektrolytische plaat eraf valt en de galvaniseringsoplossing opnieuw vervuilt; B. Het gebruik van kathodebeweging of lucht Roeren kan het behandelingseffect verbeteren; C. De anodeplaat die bij de elektrolysebehandeling wordt gebruikt, moet een hoogwaardige nikkelanodeplaat zijn, anders wordt het behandelingseffect beïnvloed en ontstaat er onnodig afval.
Chemische precipitatiemethode: De gebruikelijke is QT-koperverwijderingsmiddel. Het hoofdbestanddeel van dit neerslagmiddel is ferrocyanide. Het combineert met Cu2+ in de plateeroplossing om koperferrocyanide-neerslag te vormen, en filtert vervolgens het neerslag weg om het doel van het verwijderen van koperonzuiverheden te bereiken. Het nadeel van deze methode is dat er nauwkeurige filtratie voor nodig is, wat tijdrovend is.
Chelaatvormermethode: Chelaatvormers zijn over het algemeen organische stoffen met aromatische ringen of heterocyclische structuren, die chelaten vormen met Cu2+ in de plateeroplossing. Omdat de chelaten en Ni2+ gelijktijdig worden afgezet tijdens de elektrolyse, kan ρ(Cu2+) in de plateeroplossing niet te hoog stijgen. Deze methode is eenvoudig en gemakkelijk te implementeren en is momenteel een betere en effectievere methode voor het behandelen van onzuiverheden in vernikkelingsoplossingen. Bij het aanbrengen moeten hoogwaardige chelaatvormers worden geselecteerd, vooral om ervoor te zorgen dat ze geen nadelige effecten hebben op de coating.
